1、去離子水設(shè)備簡介：

　　去離子水設(shè)備是用于滿足各個行業(yè)使用去離子水需求，多用于電鍍，新材料，鍍膜，精細(xì)化工，油墨，超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)、半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗、電路板的生產(chǎn)和清洗、其他高科技精細(xì)產(chǎn)品的生產(chǎn)等行業(yè)，整個系統(tǒng)是由反滲透系統(tǒng)、EDI或者混床系統(tǒng)、提純系統(tǒng)組合而成。

　　2、去離子水設(shè)備產(chǎn)水標(biāo)準(zhǔn)：

　　電導(dǎo)率：0.056-10us/cm

　　產(chǎn)水量：0.25-50噸/小時

　　3、去離子水設(shè)備特點

　　整機(jī)采用模塊化的生產(chǎn)，結(jié)構(gòu)合理緊湊，占地面積小;具有完善的控制系統(tǒng)，水滿停機(jī)，缺水保護(hù)，自動清洗，再生增壓等功能。

　　另外可選配水質(zhì)超標(biāo)排放或者超標(biāo)報警等功能。

　　4、去離子水工藝選擇

　　工藝一：預(yù)處理系統(tǒng)→一級反滲透系統(tǒng)→EDI→用水點

　　工藝二：預(yù)處理系統(tǒng)→一級反滲透系統(tǒng)→混床→用水點

　　工藝三：預(yù)處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→混床→用水點

　　工藝四：預(yù)處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→EDI→用水點

　　工藝五：預(yù)處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→EDI→提純系統(tǒng)→用水點

　　工藝六：預(yù)處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→混床→提純系統(tǒng)→用水點

　　工藝七：預(yù)處理系統(tǒng)→一級反滲透系統(tǒng)→用水點